硅锗的性质内容简介
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- 2025-05-05 05:40:01
《硅锗的性质》是一本由31位国际知名专家，分别来自德国、美国、加拿大、英国和日本等国家的Si基异质结构和应用领域的教授们共同编撰的权威著作。该书专门探讨SiGe/Si的相关知识，深度剖析了这一领域的核心内容。
全书共分为七章，首章概述了SiGe应变层系统的基本性质，为后续章节打下了坚实的基础。第二章至第六章详细解析了不同状态下的SiGe合金，包括其结晶学特性、异质结构的深入研究、热力学性质、力学和晶格振动现象、能带结构、电子传输特性、磁学效应、表面性质以及光吸收和光谱特性等。这些内容对于理解SiGe材料的特性至关重要。
作为半导体领域的核心参考资料，《硅锗的性质》是科技人员，特别是材料专业和半导体专业的研究生、博士生不可或缺的读物。此外，物理领域的科技人员也能从中获取详尽的手册式信息，便于他们在研究和工作中查询和应用。
SiGe/Si在半导体研究中占据了显著地位，尤其是应变和弛豫的SiGe，它在电子集成电路和光电子集成电路的发展中扮演了极其重要的角色。这本书的每一个章节都反映了这一材料技术的前沿进展和深度洞察。
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