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周益春教授团队突破HfO2基铁电畴动力学原子尺度隔离带的介观相场模拟难题

在信息技术高速发展的背景下,全球数据存储需求面临巨大挑战。为解决现有存储器的物理限制、性能差距和高能耗问题,新型非易失性存储器成为科技前沿的焦点。其中,铁电存储器因其抗辐射性和长久数据保留能力,备受瞩目。然而,传统的铁电材料如钙钛矿结构存在尺寸效应和兼容性问题。氧化铪(HfO2)的发现为新型存储器发展提供了新途径,HfO2基铁电材料因其薄膜越薄性能越优的特性,有望突破多重难题。

然而,HfO2铁电正交相中的“隔离带”结构,阻碍了对铁电畴动力学的深入理解。周益春教授团队通过介观相场模拟,揭示了Hf0.5Zr0.5O2薄膜中铁电畴翻转的动力学机制,尤其是无尺度的独立翻转特性和尖锐的畴壁,这些都源自于隔离带对相邻畴的弱相互作用。他们通过构建的相场模型,揭示了T-O相变的一阶性,以及室温下HZO薄膜的b畴和c畴转变机制。对比研究发现,HZO薄膜的隔离带使得铁电畴之间相互作用极弱,而BaTiO3的畴壁则显示出不同特性。

团队还通过可视化,详细展示了电场下HfO2薄膜铁电畴翻转的动态过程,确认了新畴形核主导的翻转机制,这与NLS模型相符。这一突破性成果为HfO2基铁电存储器的精细调控和高密度、快速开发提供了理论基础。该研究已发表在《先进功能材料》上,由西安电子科技大学的研究团队和多位国内外学者共同完成,得到了国家自然科学基金委和陕西省自然基金等机构的支持。

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